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在選購(gòu)小型濺射儀時(shí),可以考慮以下幾個(gè)因素

更新時(shí)間:2023-10-25點(diǎn)擊次數(shù):1058
  小型濺射儀利用高能離子束轟擊靶材料,使其原子或分子從靶材料上解離,并沉積在基板表面上,形成覆蓋層。通過調(diào)節(jié)離子束的能量和強(qiáng)度,可以實(shí)現(xiàn)不同性質(zhì)的薄膜制備。這種技術(shù)被廣泛應(yīng)用于材料表面的改性和制備高質(zhì)量薄膜材料。主要用于制備薄膜材料,如金屬薄膜、氧化物薄膜等。這些薄膜具有良好的準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)和化學(xué)性質(zhì),廣泛應(yīng)用于光電子、信息技術(shù)、磁學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。
 
  在選購(gòu)小型濺射儀時(shí),可以考慮以下幾個(gè)因素:
 
  1.薄膜材料種類:不同的型號(hào)適用于不同種類的薄膜材料,如金屬薄膜、氧化物薄膜、半導(dǎo)體材料等。根據(jù)實(shí)際需求選擇適合的儀器。
 
  2.濺射靶材:濺射靶材是產(chǎn)生薄膜主體的關(guān)鍵因素,可以選擇在市場(chǎng)上常見的金屬、合金、化合物等靶材。還需要考慮到靶材的尺寸、形狀以及純度等因素。
 
  3.濺射室尺寸:通常有不同尺寸的濺射室,選擇時(shí)需要考慮所需薄膜尺寸和樣品尺寸,確保儀器可以容納并制備所需的薄膜。
 
  4.濺射能源:可以根據(jù)不同需求使用直流(DC)或者射頻(RF)濺射能源,選擇時(shí)需要考慮使用的材料特性以及實(shí)驗(yàn)條件。
 
  5.控制系統(tǒng):控制系統(tǒng)應(yīng)該易于操作和控制,具有可調(diào)節(jié)的濺射參數(shù)(如功率、流量等),同時(shí)具備安全保護(hù)功能。
 
  6.附加功能:一些可能配備真空系統(tǒng)、加熱裝置、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)等附加功能,根據(jù)實(shí)際需求選擇是否需要這些輔助設(shè)備。
  小型濺射儀
  小型濺射儀的操作使用步驟:
 
  1.將待濺射的樣品固定在濺射靶上。
 
  2.將濺射靶放入濺射室,關(guān)閉室門,并確保密封性良好。
 
  3.打開濺射儀的電源開關(guān)。
 
  4.選擇所需的濺射材料和工藝參數(shù),并設(shè)置在控制面板上。
 
  5.打開氣體供應(yīng)系統(tǒng),將惰性氣體(如氬氣)導(dǎo)入濺射室中,以確保稀薄的工作氣氛。
 
  6.打開真空泵,以抽取濺射室內(nèi)的空氣,創(chuàng)建真空環(huán)境。
 
  7.觀察真空計(jì)的示數(shù),當(dāng)達(dá)到所需的真空度后,可以開始濺射過程。
 
  8.按下開始按鈕,濺射過程開始。
 
  9.完成濺射后,關(guān)閉濺射電源和氣體供應(yīng)系統(tǒng)。
 
  10.打開室門,取出濺射靶,將樣品取下。
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